Tandem QLED 中顶部底部结构对效率的贡献
亮点
该研究设计了一种新的常规串联 QLED (Regular Tandem Quantum Dot Light-Emitting Diodes)结构,获得了有史以来常规串联 QLED结构的最佳性能表现。通过采用超薄(≈4 nm)氧化铟锡(ITO)材料的电荷产生层(CGL),该结构进一步平衡了电荷注入并系统优化了光输出耦合效率,外量子效率(EQE)表现出破纪录的51.2%。
图 1 常规 Tandem QLED 的器件结构及工作机理 (a) 常规 Tandem QLED 的器件结构示意图。右侧插图显示了 2PACz 和 6PA 的化学结构。(b) 常规 Tandem QLED 的横截面 TEM 图像和相应的混色 EDS 元素映射图像。(c) 常规 Tandem QLED 的工作机制。
图 2 计算得到的 (i) 底部器件、(j) 顶部器件和 (k) 串联器件的功率分布
准备
根据 安装与许可,正确安装并激活 Leda。
作者在 Supporting Information 中提供了材料折射率数据。
该串联 QLED 结构在目标波长 632 nm 下的各层折射率分别为:
- ITO:1.73+0.01i
- PEDOT:PSS:1.48
- TFB:1.72
- QDs:1.95
- ZnMgO:1.59
- Al2O3:1.37+7.52i
- 2PACz:6PA:1.72
- Al:1.37+7.52i
文中器件结构为 glass/ITO anode (150 nm)/PEDOT:PSS (40 nm)/TFB-up (30 nm)/QDs-up (26 nm)/ZnMgO-up (130 nm)/Al:Al2O3 (2 nm)/ITO-CGL (4 nm)/2PACz:6PA (5 nm)/TFB-down (40 nm)/QDs-down (35 nm)/ZnMgO-down (50 nm)/Al cathode (110 nm)
数据仅用于本次案例实践,如将数据用于实际项目,请引用:Yang et al., 2025
常规串联器件
首先按照 图 1(a) 建立常规串联QLED结构,各层导入作者提供的厚度与折射率数据。需要注意该结构为 ITO anode 面发光,搭建时应将发光面朝上,与 图 1(a) 所示顺序相反。ITO 阳极位于顶部,Al 阴极位于底部。
激活 QDs-up 与 QDs-down 的 Emis. 属性。由于其基底为 1 mm 的玻璃,激活 glass 层的 Inco. 属性。
由于我们只探究目标波长 632 nm 下的器件性能,因此在 Emitter 配置页中将两个 Emitter 的光谱类型选为 Unit White 即可。
开启 Mode Detector,设置 Wavelength Type 为 Single。设置波长为 632 nm。将 Error Tolerance 提高至 20,容许一些误差。
在 Sweep 添加对 ZnMgO-up 层的厚度扫描,区间设置为从 22 nm 到 200 nm,步长为 2 nm。
点击 Run Sweep 获得常规串联器件 Mode distribution 随 ZnMgO-up 厚度变化而变化的扫描结果,与 图 2(k) 的功率分布(Fraction of power)近似。
顶部器件
根据 图 1(a),底部器件包括 ITO-CGL,2PACz:6PA,TFB-down,QDs-down, ZnMgO-down,Al cathode 层。
在上述搭建好的串联器件基础上,关闭 QDs-up 的 Emis. 属性。
点击 Run Sweep 获得底部器件的 Mode distribution 随 ZnMgO-up 厚度变化而变化的扫描结果,与 图 2(j) 的功率分布(Fraction of power)近似。
底部器件
根据 图 1(a),底部器件包括 ITO-anode,PEDOT:PSS,TFB-up,QDs-up,ZnMgO-up,Al:Al2O3 层。
在搭建好的器件基础上,关闭 QDs-down 的 Emis. 属性,激活 QDs-up 的 Emis. 属性。
点击 Run Sweep 获得顶部器件 Mode distribution 随 ZnMgO-up 厚度变化而变化的扫描结果,与 图 2(i) 的功率分布(Fraction of power)近似。
总结
该案例通过优化常规 Tandem QLED 结构,平衡了器件的电荷与空穴注入,获得了高 EQE 的 QLED 器件。通过光学仿真研究了 Tandem 结构中顶部与底部器件对 OCE 的贡献。
Leda 的仿真结果与原文基本一致。可能由于所使用的数据和算法并非完全一致,具体数值存在一些差异。