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高效率顶发射 QLED

亮点

该工作对比了顶发射(Top-emitting, TE) QLED 相比于底发射(Bottom-emitting, BE) QLED 在 LEE 上的优势。在顶发射结构中引入双 IZO 相位调谐层(Phase tuning layers, PTLs)并优化其厚度使得 QLED 出光耦合效率突破 45%。最终实现了 44.5% 的 EQE,是发表时已知的最高的 QLED 效率。

Figure 1

图 1(a)BE-QLED 和 TE-QLED 器件结构示意图以及波长 626 nm 下的仿真参数。(b)基于 BE 和 TE 结构的器件光学模。(c)最优结构下 BE-QLED 和 TE-QLED 在 626 nm 波长处的功率耗散光谱。(d)平均 EQE/γ 随着底部和顶部 IZO PTL 厚度的变化而变化。

Licensed under CC BY

Figure S1

图 S1. 功能层的光学特性。(a, b)QD 和 CTL 的波长依赖的折射率。(c)电极的波长依赖的折射率和消光系数。

Licensed under CC BY

准备

根据 安装与许可,正确安装并激活 Leda。

将以下数据下载到本地。

数据仅用于本次案例实践,如将数据用于实际项目,请引用:Li et al., 2023

仿真验证

我们将使用 Leda 来完成 图 1 中的仿真结果。

BE-QLED 和 TE-QLED 的损耗分析

首先按照 图 1(a) 建立了 BE-QLED 结构,各层导入作者提供的折射率数据。激活 QD 层的 Emis. 属性,将其作为 EML;由于 Glass 为基底,激活其 Inco. 属性。

BE-QLED Structure

在 Emitter 中导入作者提供的 Red CdSe QD 的 PL 光谱。

BE-QLED Emitter

开启 Mode Detector,根据 图 1 的 caption 所述,我们只关注 626 nm 波长下的 Mode。因此 Wavelength Type 设置为 Single

BE-QLED Mode Detector

点击 Run 输出 Mode 结果,可以看到各 Mode 数值与 图 1(b) 基本一致。Leda 输出的 TOC 为 42.02%,图 1(b) 中的 Air mode为 41.42%。

BE-QLED Mode Result

接下来我们按照图 1(a)建立 TE-QLED 模型。

TE-QLED Structure

注意取消勾选 Glass 层,因为由于 100 nm Ag 层的存在,光几乎无法到达 Glass(具体见 层的属性 中的讨论)。

Emitter 和 Detector 的设置与 BE-QLED 一致,点击 Run 输出结果,可以看到各 Mode 数值与 图 1(b) 基本一致。Leda 输出的 TOC 为 45.83%,图 1(b) 中的 Air mode为 45.74%。

TE-QLED Mode Result

相比于 BE-QLED,可以看到 TE-QLED 的 Substrate mode(SUB)消失,而 Air mode(TOC)和 Waveguide mode(WVG)增加了。

Power Dissipation Spectra

图 1(c) 展示了 626 nm 波长下 BE-QLED 和 TE-QLED 的 Power dissipation spectra。

对 BE-QLED 和 TE-QLED 的配置同时开启 Power Dissipation 探测器,u inplane 范围设置为 0–2,Step 为 0.002,如下所示。

BE-QLED Power Dissipation Detector

仿真完成后,使用 Leda 一键数据拷贝功能,可以快速将数据导出到 Excel。

经过格式处理后,可以得到如下图所示的 BE-QLED 和 TE-QLED 的 Power dissipation spectra。

Export Power Dissipation to Excel

微腔优化

图 1(d) 展示了 TE-QLED 结构通过微腔效应优化来实现最佳效率。在 QY 为 90.59% 的情况下,最终确定当底部 IZO 厚度为 150 nm,顶部 IZO 厚度为 100 nm 时,得到最优 EQE/γ 为 41.4%。

我们复制一份 TE-QLED 的仿真文件,进行以下修改:

  1. 将 Emitter 的 Quantum Efficiency 设置为 91%。
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  1. 仅激活 Mode 探测器,设置 Wavelength TypeIntegration。根据 Emitter 的光谱范围,设置 Wavelength 范围从 570 到 670 nm,步长(Step)为 5 nm。
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  1. 在 Sweep 添加 IZO-B 和 IZO-T 的厚度扫描,从 5 nm 到 200 nm,步长为 5 nm(你可以进一步提高精度,但会增加计算时间)。
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点击 Run Sweep 获得扫描结果。在结果中将 Chart Type 切换到 Heatmap 观察 EQE 随着底部和顶部 IZO 厚度的变化而变化。如下图所示,我们实现了与 图 1(d) 相同的图案。

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在最佳效率下 IZO-B 的厚度为 150 nm,IZO-T 的厚度为 100 nm,也正是我们在第一步分析中所使用的参数。所以该工作对比

通过拖动 colorbar 的最小值到 0.38,可以发现 IZO 在一定的厚度范围内,都可以达到较高效率。

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总结

在该案例中,我们了解了顶发射结构相比于底发射结构的效率优势,以及顶发射结构的微腔优化技巧,最终实现了高效率的 QLED。

Leda 的运行结果与论文结果几乎一致,且能够在秒级完成运算。借助数据一键导出功能,也可以快速完成图表绘制和数据分析。建模→计算→导出,Leda 的全程几乎无负担地完成了专业的光学仿真。

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